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準(zhǔn)分子激光氣

產(chǎn)品名稱：準(zhǔn)分子激光氣
其他名稱：Excimer Laser Gases
分子式：ArF、KrF、XeCl
UN NO：UN 1956
CAS NO：
產(chǎn)品純度：99.9999％
包裝說明：10L、16L、20L、49L、50L

訂購熱線：4006-377-517

準(zhǔn)分子激光氣

產(chǎn)品名稱：準(zhǔn)分子激光氣體（Excimer Laser Gases)
其他名稱：氟化氬激光氣體（193nm）；氟化氪激光氣體（248nm）；氯化氙激光氣體（308nm）
產(chǎn)品類型： ArF，KrF，XeCl，5%F2/He, Kr/Ne,F2/Kr/Ne,Ar/Ne,F2/Ar/Ne
UN NO.： UN1956
鋼瓶容積： 11L，16L，20L，49L，50L
閥門型號(hào)：CGA679，DIN 8，DIN 14

高功率準(zhǔn)分子激光氣體
可用波長	193 nm	ArF
	248 nm	KrF
	308 nm	XeCl
	450nm~520nm	XeF
最大紫外功率	540 W
最大紫外能量	1100 mj
重復(fù)頻率	可變， 1~600 Hz
脈沖穩(wěn)定性	0.5%~1%，rms
長期漂移	0.1%~0.5%，rms
光束分布	均勻，平頂
脈沖寬度	10~20 ns
相關(guān)氣體純度	F2, 99.9% Ar, 99.9999% He, 99.9999% Ne, 99.9999% HCl, 電子級(jí) Kr, 99.999% Xe, 99.999% O2, 99.999% H2, 99.999%
氣體工作溫度	- 40 0C ~ + 74 0C
氣體壓力	520 psig ~ 2400 psig / 35 Bar ~ 167 Bar
鋼瓶規(guī)格	10L、16L、20L、50L
閥門接口	CGA 679、CGA 330、CGA 580、DIN 6、DIN 8、DIN 14
安全手冊(cè)	請(qǐng)?jiān)诒竟揪W(wǎng)站閱讀或下載。

本產(chǎn)品適用于近視眼矯正手術(shù)、白癜風(fēng)治療等醫(yī)療應(yīng)用：

適用機(jī)型	波長 nm	鋼瓶規(guī)格	閥門規(guī)格	工作氣體
鷹視（COHERENT）	193	20 L	DIN 8	F2, 99.9% Ar, 99.9999% He, 99.9999% Ne, 99.9999%
博士倫（B & L）	193	20 L、50 L	DIN 8
蔡司（ZEISS）	193	10L、20 L	DIN 8
威視（VISX）	193	16 L	CGA 679
尼德克（NIDEK）	193	16 L	CGA 679
雷賽（LASERSIGHT）	193	10 L	CGA 679
愛爾康（Alcon）	193	16 L	CGA 679
康奧（SCHWIND）	193	20 L	DIN 8、 DIN 14
視可佳（六六視覺）	193	16 L	CGA 679
森美（SUMMIT）	193	16 L	CGA 679
科醫(yī)人（COHERENT）	308	8 L	CGA 330	HCl,電子級(jí) Xe，99.9995% Ne,99.9999%
美國 Photomedex	308	8 L	CGA 330	HCl,電子級(jí) Xe，99.9995% Ne,99.9999%

工業(yè)技術(shù)的升級(jí)轉(zhuǎn)型需要平衡日益增長的性能需求與加工速度及制造成本之間的矛盾。準(zhǔn)分子激光的誕生，以其高光子能量所稱著，在對(duì)突破材料限制需求越來越迫切的時(shí)代，準(zhǔn)分子激光器再次站在了尖端工業(yè)激光解決方案的最前沿。作為當(dāng)今最有效、最可靠的脈沖紫外激光技術(shù)的代表，準(zhǔn)分子激光器有效地推進(jìn)了諸如半導(dǎo)體、AMOLED平板顯示、薄膜、硅底板加工、有機(jī)金屬沉淀、高溫超導(dǎo)、刻蝕、材料研究、汽車制造、生物醫(yī)療、光纖、鉆石打標(biāo)設(shè)備及可替代能源等多種成長型工業(yè)中的技術(shù)革新。

品牌	機(jī) 型	波長	工作氣體
ATL	ATL ARF-1	193 nm	F2,Ar,Xe,Ne
ATL	ATL KRF-1	248 nm	F2,Kr,Xe,Ne
TUI	CTFTS-ARFV 2.2	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.1	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTFTS-KRFV 2.2	248 nm	F2,Kr,He,Xe,Ne
	CTMD-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	CTMD-XECLV 2.1	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-ARFV 2.0	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-ARFV 2.1	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	CTMN-KRFV 1.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-KRFV 2.0	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	CTMN-XECLV 2.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XECLV 5.0	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	CTMN-XEFV 1.1	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
	CTMN-XEFV 1.2	450nm~520nm	F2,Xe,He,Ne
GAM Laser	EX5 ArF	193 nm	F2,Ar,He,O2,Ne
	EX5 KrF	248 nm	F2,Kr,He,Ne
	EX5 XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne
	EX10	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX50	193 nm	F2,Ar,He,Ne
	EX100	193 nm	F2,Ar,He,Ne
Photomedex	XeCl	308 nm	HCl,Xe,Ne
Photoscribe	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
Photoscribe	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
Potomac Photonics	ArF	193 nm	F2,Ar,Ne
Potomac Photonics	KrF	248 nm	F2,Kr,Ne
Spectranetics	XeCl	308 nm	HCl,H2,Xe,Ne

注意事項(xiàng):準(zhǔn)分子激光氣體為高壓充裝氣體，使用時(shí)應(yīng)經(jīng)減壓降壓后方可使用。包裝的氣瓶上均有使用的年限，凡到期的氣瓶必須送往有部門進(jìn)行安全檢驗(yàn)，方能繼續(xù)使用。每瓶氣體在使用到尾氣時(shí)，應(yīng)保留瓶內(nèi)余壓在0.5MPa，不得低于0.25MPa余壓，應(yīng)將瓶閥關(guān)閉，以保證氣體質(zhì)量和使用安全。瓶裝氣體產(chǎn)品在運(yùn)輸儲(chǔ)存、使用時(shí)都應(yīng)分類堆放，嚴(yán)禁可燃?xì)怏w與助燃?xì)怏w堆放在一起，不準(zhǔn)靠近明火和熱源，應(yīng)做到勿近火、勿沾油臘、勿爆曬、勿重拋、勿撞擊，嚴(yán)禁在氣瓶身上進(jìn)行引弧或電弧，嚴(yán)禁野蠻裝卸。

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