真空技術(shù)是使氣體壓強(qiáng)低于地面大氣壓強(qiáng)的技術(shù)。真空是指壓力遠(yuǎn)小于101.325千帕（kPa）（即1大氣壓）的稀薄氣體空間。在真空技術(shù)中除國際單位制的壓力單位Pa外，常以托（Torr）作為真空度的單位。1托等于1毫米高的汞柱... 查看詳情

真空技術(shù)講稿 查看詳情

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了定電位電解法測定固定污染源排氣中二氧化硫濃度以及測定二氧化硫排放總量的方法。 查看詳情

最詳盡和最權(quán)威的氣瓶術(shù)語解釋資料。 查看詳情

半導(dǎo)體制程來了解氣體的應(yīng)用，則薄膜制程會(huì)是相當(dāng)大宗的使用部分，薄膜制程依照其成長方式之不同，可分金屬化濺鍍薄膜、CVD薄膜、磊晶，金屬化濺鍍(物理氣相沈積)主要應(yīng)用在金屬層成長，如鋁、銅等，其原理是利用氬氣電漿轟擊金屬靶... 查看詳情

創(chuàng)維集團(tuán)是中國彩電龍頭企業(yè)之一，主要產(chǎn)品有：各類純平、等離子、液晶、數(shù)字高清、背投電視以及數(shù)字機(jī)頂盒等，作為國內(nèi)彩電業(yè)惟一民營企業(yè)，創(chuàng)維一直堅(jiān)持“走出去”戰(zhàn)略，出口曾連續(xù)8年居行業(yè)之首。2005財(cái)年，創(chuàng)維產(chǎn)銷彩電850萬... 查看詳情

12英寸（40K/月）主要原輔材料的消耗一覽表序號(hào) 原料名稱 應(yīng)用工段 每片消耗量（kg/片） 年消耗量（kg/a）1 硅片 - - 576000片2 光掩膜版 - - 329片3 ACT-935單乙醇胺(50～60%)... 查看詳情

報(bào)告摘要：　　電子特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域，特別是超大規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、半導(dǎo)體發(fā)光器件和半導(dǎo)體材料制造過程不可缺少的基礎(chǔ)性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)... 查看詳情

氧氣的工業(yè)制法 查看詳情

中國《特種氣體市場調(diào)查》（上） 查看詳情